(1)拋光液對(duì)環(huán)境的影響?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液中的化學(xué)成分，如氨、酸等有毒成分對(duì)環(huán)境和人體的傷害很大，為此，在進(jìn)一步研究拋光液制備工藝的同時(shí)，拋光液的循環(huán)利用也要進(jìn)一步完善，做到經(jīng)濟(jì)發(fā)展與環(huán)境保護(hù)相協(xié)調(diào)。例如，水性體系的拋光液綠色環(huán)保、散熱快等。

　 　(2)化學(xué)機(jī)械拋光液磨料粒子的分散問(wèn)題。拋光液中使用的多為納米粒子，納米粒子的比表面積較大，表面能較高，極易發(fā)生團(tuán)聚，目前國(guó)內(nèi)外常用超聲波、機(jī) 械攪拌、表面處理等機(jī)械化學(xué)方法對(duì)納米磨料粒子進(jìn)行分散 ，但是往往達(dá)不到效果，因此，納米磨料粒子的分散穩(wěn)定性需要進(jìn)一步的研究。本課題組正在通過(guò)使用納濾膜或微濾膜控制磨料粒子分布的寬窄來(lái)制備精細(xì)化的拋光 液。

　　(3)拋光液的適用性。目前所用的拋光液沒(méi)有表明針對(duì)某一工件適用，因此，針對(duì)不同材料開(kāi)發(fā)專(zhuān)門(mén)使用的化學(xué)機(jī)械拋光液需要進(jìn)一步的研究。例如，目前富士康對(duì)ipHone、 ipad 等外殼進(jìn)行光學(xué)鏡面模拋光，以及對(duì)半導(dǎo)體晶片的拋光，都需要使用專(zhuān)門(mén)特定的拋光液。